1. Clean Bench
Clean Bench는 국소적 정밀 작업공간의 무균, 무진환경을 형성하기 위한 장치로서, 층류의 청정공기가 정면에서 연구원의 앞으로 공급되는 수평층류형과 내부 천정에서 작업대아래로 수직공급되는 수직층류형으로 분류됩니다. Clean Bench는 내부의 고성능필터(HEPA/ULPA Fiter)에 의하여 Clean Room Class 100이하의 무진, 무균공기가 0.5m/s의 풍속으로 공급되므로 Clean Bench 내부는 Clean Room Class 100이하의 청정구역이 형성됩니다.

2. Clean Bench의 구성

(1)HEPA FILTER
(2)HEPA FILTER
(3)BACK GRILL
(4)WORKING TABLE
(5)BLOWER
(6)FRONT GRILL
(7)FRONT DOOR
(8)CONTROL BOX

3. Clean Bench의 분류
(1)Bio-Hazard Safety Type


동물세포시험 및 조직배양 등의 실험에서 병원균과 같은 유해세균으로부터 연구원을 안전하게 보호하기 위한 Clean Bench Type입니다. 요구되는 청정등급은 Class 100 이하로서 HEPA Filter 2개가 사용됩니다. 상부 플레넘에 설치된 HEPA Filter의 상태가 Clean Bench의 성능을 좌우하므로 적절한 시기에 Filter를 교환해 주어야 합니다. Clean Bench의 기류는 Work Bench의 슬롯을 통한 흡입기류가 상부를 Filter를 통하여 아래로 공급되는 형태입니다.

(2)수직기류형
 



Clean Bench 상부에 위치한 HEPA Filter를 통하여 여과된 기류가 Clean Bench의 상부로부터 공급되는 형식입니다. Clean Bench 하부의 Pre-Filter(Activated Carbon Filter)와 Main Filter(HEPA Filter)로 구성되어 있습니다. HEPA Filter는 0.3um의 입자제어용으로 CleanRoom Class 10~100에 사용되며 반도체, 전자관련 Clean Room에 사용됩니다. 보다 우수한 Filter로서 ULPA FIlter가 사용될 수 있으며, 이것은 0.1~0.2um의 입자제어용으로 CleanRoom Class 1~100에 사용됩니다. 가장 일반적인 Clean Bench의 기류공급방식입니다. 실험, 연구, 개발 및 정밀 반도체, 전자관련 산업에 많이 이용됩니다.

(3)수평기류형


Clean Bench 후면의 HEPA FIlter를 통하여 여과된 기류가 작업자의 전면부를 통하여 공급되는 형식입니다. 비교적 작은 장비를 취급하는 반도체, 전자, 광학작업의 산업체에 많이 이용됩니다.